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為客戶提供全面的設備和工藝解決方案

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"產品中心
為客戶提供全面的設備和工藝解決方案
AVP IBE System
- 廣泛適用所有材料刻蝕,包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產能、7/24連續運行的薄膜刻蝕系統
- 歐美工業生產驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復性
- 廣泛適用所有材料刻蝕,包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產能、7/24連續運行的薄膜刻蝕系統
- 歐美工業生產驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復性
- 純物理刻蝕,采用惰性氣體為工藝氣體,環保、無污染,應用廣泛
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AVP HR PVD System
-高濃度離子輔助的傾角濺射(Directional Sputtering)
-高速率反應濺射,如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優異的薄膜厚度均勻性(1σ<1%),裹覆率(Step Coverage ~50%)
-基片背面氦氣冷卻,基片溫度(<50°C)
-高靶材使用率(>8
-高濃度離子輔助的傾角濺射(Directional Sputtering)
-高速率反應濺射,如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優異的薄膜厚度均勻性(1σ<1%),裹覆率(Step Coverage ~50%)
-基片背面氦氣冷卻,基片溫度(<50°C)
-高靶材使用率(>80%)
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AVP 4T PVD SYSTEM
-各種薄膜、精密光學薄膜,及高溫(Max. 1000℃) 沉積的解決方案
-各種成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反應等薄膜沉積工藝
-成熟、可靠、低成本、高產能、7/24連續運行的薄膜沉積系統
-廣泛應用于歐美光學器件、MEMS、存儲等工業界的薄膜沉積
-各種薄膜、精密光學薄膜,及高溫(Max. 1000℃) 沉積的解決方案
-各種成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反應等薄膜沉積工藝
-成熟、可靠、低成本、高產能、7/24連續運行的薄膜沉積系統
-廣泛應用于歐美光學器件、MEMS、存儲等工業界的薄膜沉積
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"支持與服務
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專家支持
專家支持服務,提供7/24現場及遠程設備及工藝診斷和改進。
先進的工業控制系統
提供國際工業生產驗證的,長期穩定的全自動設備控制系統。
客戶至上的原則
全心全意為客戶服務,為客戶成功助力。
"關于艾微普
為客戶提供全面的設備和工藝解決方案
專注打造世界先進水平的高端微納器件、半導體、及新能源加工設備
艾微普公司是基于美國硅谷科技技術團隊成立的半導體設備公司,在浙江海寧創立。公司聚集了多位海內外資深微納加工及半導體設備、工藝、材料專家,專注打造世界先進水平的高端微納器件、半導體、及新能源加工設備。

公司的核心技術和產品包括物理氣相沉積/磁控濺射(PVD)、離子束刻蝕機(IBE)、反應離子刻蝕機(RIE)、電子束蒸鍍機等系列MEMS、半導體、新能源器件制造專用設備。公司自創立以來,已經獲得幾十項國家專利。
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公司總部
中國浙江省嘉興市海寧市海寧大道8號科技綠洲8號樓1層
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